Download or read book Optimisation du procédé de sérigraphie pour la réalisation de capteurs de gaz en couche épaisse. Etude de la compatibilité avec la technologie microélectronique written by Béatrice Rivière and published by . This book was released on 2004 with total page 236 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail s'inscrit dans le cadre de la miniaturisation des capteurs de gaz à base d'oxydes semi-conducteurs (SnO2). L'objectif de l'étude est de déposer des couches sensibles par sérigraphie sur des substrats chauffants en silicium. La première partie a consisté à acquérir une base de compétences sur la technique de dépôt par sérigraphie. De nombreux paramètres tels que la composition des encres, les conditions de dépôts et de recuit ont été étudiés. La seconde partie concerne le travail de compatibilité entre la technique de sérigraphie et les supports microélectroniques. Le principal problème a été d'améliorer l'adhésion entre le substrat silicium et la couche sensible sans dégrader sa conductivité électrique. La solution retenue a consisté à remplacer le liant minéral par un précurseur de l'élément à déposer. Cette substitution permet d'améliorer le frittage du SnO2 et l'accrochage entre la couche et le support microélectronique.